在集成电路、半导体和电真空器件制造中用作保护气和运载气，化学气相淀积时的载气，液体扩散源的携带气，在高温扩散炉中用作器件的保护气。高纯氮在外延、光刻、清洗和蒸发等工序中，作为置换、干燥、贮存和输送用气体。显像管制造中要求氮气纯度为99.99%以上。在航天技术中，液氢加注系统必须先用高纯氮置换，再用高纯氦置换。
纯氮、高纯氮和超纯氮产品的技术要求、检验方法以及包装、标志、贮运、安全警示等。本标准适用于空气分离或经净化得到的气态或液态的纯氮、高纯氮和超纯氮，主要用作保护气、置换气、反应气等。 本标准与GB／T8979—1996和GB／T8980—1996相比主要变化如下：———调整了规范性引用文件；———修改了纯氮、高纯氮的技术要求；———修改了氢、氧、CO、甲烷的测定方法———增加了氩含量的测定方法。
液相不用的。液氮当然不能代替了，因为你没办法用它。你用的是有一定压力的氮气，而液氮是常压存在的。即使变成气体，也不好控制。