金刚石与工具相结合—气相沉积法：通过扫描电镜分析真空镀Ti-Cr金刚石在胎体中的结合状态可知,真空镀Ti-Cr金刚石与胎体界面有明显的碳化物过渡层形成,胎体对真空镀Ti-Cr金刚石的包镶为化学键合。
利用化学镀技术可以在金刚石表面形成分散金属质点,主要是要控制化学镀的程度,要严格控制敏化液和活化液的浓度以及敏化和活化处理的时间,特别是化学镀的时间,使金刚石表面上金属质点的数量保持在合适范围内。
金刚石与工具相结合—气相沉积法：根据成膜材料气化方式不同,PVD法又可分为真空蒸发镀、真空微蒸发镀、真空溅射镀、真空离子镀。化学气相沉积镀(CVD)是利用气态物质在一定压力、温度、时间条件下,将被镀金属的气态化合物(如卤化物)导入放有镀件的反应室内,与工件接触发生热分解或化学合成而形成镀层。