金刚石与工具相结合—气相沉积法：根据成膜材料气化方式不同,PVD法又可分为真空蒸发镀、真空微蒸发镀、真空溅射镀、真空离子镀。化学气相沉积镀(CVD)是利用气态物质在一定压力、温度、时间条件下,将被镀金属的气态化合物(如卤化物)导入放有镀件的反应室内,与工件接触发生热分解或化学合成而形成镀层。
金刚石与胎体结合粗化法：加大金刚石表面粗糙程度还有另外两方面的作用:一是粗化后的金刚石表面形成一些微小的凹面,由于在这些凹面上金刚石表面吸附力大,有利于金属离子在该处的吸附,便于后续化学镀及电镀的进行;二是使金刚石表面上原有的一些凹面和位错连通,在金刚石表面形成台阶,为化学镀或电镀金属沉积层的生长提供了有利条件。
金刚石与胎体结合弱粗化：在室温或加热状态下让金刚石在粗化液(硝酸+硫酸或硝酸+双氧水)里侵蚀,并不停的搅拌,然后用蒸馏水清洗干净。金刚石在酸的强氧化腐蚀下表面会形成一些缺陷(如:坑、裂纹)和轻微石墨化。