金刚石与工具相结合—气相沉积法：根据成膜材料气化方式不同,PVD法又可分为真空蒸发镀、真空微蒸发镀、真空溅射镀、真空离子镀。化学气相沉积镀(CVD)是利用气态物质在一定压力、温度、时间条件下,将被镀金属的气态化合物(如卤化物)导入放有镀件的反应室内,与工件接触发生热分解或化学合成而形成镀层。
金刚石与胎体结合采用化学镀可以制备金刚石表面连续金属膜。通过化学镀之后,金刚石与胎体金属结合比较紧密,金刚石与胎体界面除有细小裂痕外,无明显沟槽。对未镀金刚石和化学镀Ni-Fe-B金刚石的力学性能测试得出:胎体对未镀金刚石的包镶能力为96.1MPa,对化学镀Ni-Fe-B金刚石的包镶能力为105.4MPa。
金刚石与工具相结合—气相沉积法：气相沉积法按作用机理划分,可分为物理气相沉积和化学气相沉积。在真空条件下,将金属气化成原子、分子或离子,直接沉积到镀件表面上,称为真空物理气相沉积。