利用化学镀技术可以在金刚石表面形成分散金属质点,主要是要控制化学镀的程度,要严格控制敏化液和活化液的浓度以及敏化和活化处理的时间,特别是化学镀的时间,使金刚石表面上金属质点的数量保持在合适范围内。
金刚石与工具相结合—气相沉积法：对真空镀镀Ti-Cr金刚石进行X射线衍射分析(XRD)发现,在金刚石表面上形成有TiC,Cr2C3等碳化物(薄膜),这种碳化物一方面可以与金刚石表面形成较强的化学键合,另一方面可以很好地被胎体金属或合金所浸润。
金刚石与工具相结合—气相沉积法：根据成膜材料气化方式不同,PVD法又可分为真空蒸发镀、真空微蒸发镀、真空溅射镀、真空离子镀。化学气相沉积镀(CVD)是利用气态物质在一定压力、温度、时间条件下,将被镀金属的气态化合物(如卤化物)导入放有镀件的反应室内,与工件接触发生热分解或化学合成而形成镀层。