氮气(N2):相对分子质量较大、扩散系数小、柱效相对较高、安全、价格便宜,因此,这4种气体中常用的载气,在氢火焰离子化检测器中常用,但由于其热导系数低、灵敏度差、定量线性范围较窄,因此在热导检测器中少用。
高纯氧用于二氧化硅的化学气相沉积;作为氧化源与产生高纯水的反应剂;干法氧化;与四氟化碳混合,用于等离子刻蚀。氧的主要用途源于它能维持生命和助燃性质;在冶金工业中有广泛应用。
在集成电路、半导体和电真空器件制造中用作保护气和运载气,化学气相淀积时的载气,液体扩散源的携带气,在高温扩散炉中用作器件的保护气。高纯氮在外延、光刻、清洗和蒸发等工序中,作为置换、干燥、贮存和输送用气体。显像管制造中要求氮气纯度为99.99%以上。在航天技术中,液氢加注系统必须先用高纯氮置换,再用高纯氦置换。