-Lw MOSFET（场效应管）的主要参数: 3. 漏源击穿电压BVDS在VGS=0(增强型)的条件下 ，主要看型号和参数可以了解MUR860D-ASEMI
-Lx N沟道增强型MOSFET基本上是一种左右对称的拓扑结构，它是在P型半导体上生成一层SiO2 薄膜绝缘层，然后用光刻工艺扩散两个高掺杂的N型区，从N型区引出电极，一个是漏极D，一个是源极S。在源极和漏极之间的绝缘层上镀一层金属铝作为栅极G。MUR860D-ASEMI
-Lv 场效应管（FET），把输入电压的变化转化为输出电流的变化。FET的增益等于它的跨导， 定义为输出电流的变化和输入电压变化之比。市面上常有的一般为N沟道和P沟道，详情参考右侧图片（P沟道耗尽型MOS管）。而P沟道常见的为低压mos管。MUR860D-ASEMI