真空镀膜其原理是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质电离，在电场的作用下，使被蒸发物质或其反应产物沉积在工件上。
真空镀膜就是在表面涂渡一层或多层金属膜或金属化合物，以改变光学性能。
真空镀膜颜色均匀一致 耐久的表面，在各种基本的空气和直射阳光环境条件下保持良好外观。颜色深韵、光亮。
