在集成电路、半导体和电真空器件制造中用作保护气和运载气，化学气相淀积时的载气，液体扩散源的携带气，在高温扩散炉中用作器件的保护气。高纯氮在外延、光刻、清洗和蒸发等工序中，作为置换、干燥、贮存和输送用气体。显像管制造中要求氮气纯度为99.99%以上。在航天技术中，液氢加注系统必须先用高纯氮置换，再用高纯氦置换。
纯氮、高纯氮和超纯氮产品的技术要求、检验方法以及包装、标志、贮运、安全警示等。本标准适用于空气分离或经净化得到的气态或液态的纯氮、高纯氮和超纯氮，主要用作保护气、置换气、反应气等。 本标准与GB／T8979—1996和GB／T8980—1996相比主要变化如下：———调整了规范性引用文件；———修改了纯氮、高纯氮的技术要求；———修改了氢、氧、CO、***的测定方法———增加了氩含量的测定方法。
纯度是氮气的一个重要技术参数，按***氮气的纯度分为工业用氮气、纯氮和高纯氮三级，它们的纯度分别为99．5％（O2≤0．5％），99．99％（O2≤0．01％）和99．999％（O2≤0．001％）。纯氮N2 ≥99.99 化工、治金、电子工业 高纯氮N2 ≥99.999 科研、电子、机械行业、色谱仪载气所以用于制冷剂的话，没什么区别，高纯氮主要适用于精密仪器