蚀刻的流程：先在天线的氮化铝陶瓷基板上层压一层平面铜箔或铝箔，然后在箔片上涂一层感光胶。用一个带有天线形状的正片对箔片层进行曝光。感光胶的光照部分被洗掉，其下的金属就显露了出来，将这些金属经蚀刻溶解掉，留在氮化铝陶瓷基板上的线圈就是天线。
碱性条件下硫化钠沉淀法除铜：碱性蚀刻废液中主要含Cu2+及NH3H2O，当NH4+含量较高以及在碱性条件下，Cu2+与NH4+可形成铜氨络合物，无法用中和沉淀方法处理废水中的铜。但Na2S在碱性条件下，能与重金属形成比其络合物更稳定的沉淀物CuS，从而达到去除重金属铜的目的。
不锈钢蚀刻也称光化学蚀刻，指通过曝光制版、显影后，将要蚀刻区域的保护膜去除，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果。工艺：工程根据图形开出备料尺寸-材料准备-材料清洗-烘干→贴膜或涂布→烘干→曝光→ 显影→烘干-蚀刻→脱膜→OK