真空镀膜真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的方法。
真空镀膜 眼镜镀膜常用药品：二氧化锆（ZrO?）、二氧化硅（SiO?）、ITO（增加镜片导电抗紫外线）、HT-100（防水膜，防止老化和氧化）…… 镀膜原理：高电压电子qiang将以上几种药品汽化，均匀分布在镜片表面。
真空镀膜 阴极溅射镀：将需镀膜的基体放在阴极对面，把惰性气体(如ya)通入已抽空的室内，保持压强约1.33～13.3Pa，然后将阴极接上2000V的直流电源，便激发辉光放电，带正电的ya离子撞击阴极，使其射出原子，溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基体上形成膜。