二氧化硅膜厚仪的测量原理主要基于光的干涉现象。当单色光垂直照射到二氧化硅膜层表面时，光会在膜层表面和膜层与基底的界面处发生反射。这两束反射光在返回的过程中会发生干涉，即相互叠加，产生干涉条纹。干涉条纹的形成取决于两束反射光的光程差。当光程差是半波长的偶数倍时，两束光相位相同，干涉加强，形成亮条纹；而当光程差是半波长的奇数倍时，两束光相位相反，干涉相消，形成暗条纹。通过观察和计数干涉条纹的数量，结合已知的入射光波长和二氧化硅的折射率，就可以利用特定的计算公式来确定二氧化硅膜层的厚度。具体来说，膜厚仪会根据干涉条纹的数目、入射光的波长和二氧化硅的折射系数等参数，利用数学公式来计算出膜层的厚度。此外，现代二氧化硅膜厚仪可能还采用了其他***技术来提高测量精度和可靠性，如白光干涉原理等。这种原理通过测量不同波长光在膜层中的干涉情况，可以进一步***确定膜层的厚度。总的来说，二氧化硅膜厚仪通过利用光的干涉现象和相关的物理参数，能够实现对二氧化硅膜层厚度的***测量。这种测量方法在半导体工业、光学涂层、薄膜技术等领域具有广泛的应用。