光刻胶膜厚仪是一种专门用于测量光刻胶片层厚度的高精度仪器。其能够检测到的***小厚度变化取决于多个因素，包括仪器的设计原理、制造质量以及校准精度等。一般来说，***的光刻胶膜厚仪具有非常高的分辨率和重复***可以检测到非常微小的的厚度变化通常可以达到纳米级别（nm）的灵敏度，这对于半导体制造工艺和其他需要高精度薄膜测量的应用来说至关重要，因为这些应用中膜的微小差异都可能对***终产品的性能产生显著影响。此外一些***型号还具备自动校正功能以提高长期使用的稳定性和可靠性，从而确保持续获得准确的测量结果，然而需要注意的是尽管现代技术使得我们能够检测和测量***的尺寸，但实际应用中仍存在限制例如样品表面的均匀性粗糙度和光学特性等都可能影响到***终的检测结果。因此在使用时需要根据具体的应用场景和要求来选择合适型号的光刻胶膜厚仪并进行正确的操作和维护以确保结果的准确性和可靠性。综上所述虽然无法给出一个具体的数值范围来代表所有类型的***小检测极限但可以确定的是通过选择合适的***型号和使用正确的方法我们可以使用这些工具***地监测和控制小到纳米级别的光刻胶层的变化从而更好地满足各种精密制造的需求。