ITO膜膜厚测试仪主要采用的是光学干涉的测量原理。这一原理基于光波在薄膜上的反射和干涉现象。当光束照射到ITO膜表面时，由于入射介质、薄膜材料和基底材料具有不同的折射率值和消光系数值，使得光束在透明或半透明薄膜的上下表面发生反射。这些反射光波会相互干涉，形成干涉光。具体来说，当膜层上下表面的反射光被仪器接收时，它们之间的相位差会因为薄膜的厚度不同而有所变化。这种相位差的变化会导致反射光的强度发生变化。当相位差为波长的整数倍时，反射光会发生建设性叠加，此时反射率***；而当相位差为半波长时，反射光则会发生破坏性叠加，反射率***低。ITO膜膜厚测试仪通过测量这种反射光强度的变化，并结合已知的光学参数（如折射率、消光系数等），可以推导出薄膜的厚度。这一过程通常需要使用复杂的算法和光学模型，以确保测量的准确性和精度。总的来说，ITO膜膜厚测试仪的测量原理是基于光学干涉现象，通过测量反射光强度的变化来推算出薄膜的厚度。这种测量方法具有高精度、高可靠性等优点，被广泛应用于各种薄膜材料的厚度测量中。