光学干涉测厚仪是一种利用光学干涉原理进行薄膜材料厚度测量的高精度仪器。其测量范围因具体型号和规格的不同而有所差异。一般来说，光学干涉测厚仪的测量范围可以从纳米级别到微米级别，甚至更大。例如，有些设备能够测量的厚度范围可能在1纳米到3000微米之间，而有些则可能专注于更小的测量范围，如0.1微米到100微米。这些设备的测量精度也相当高，可以达到纳米级别，如0.01纳米或0.01%的理论精度，以及小于0.02纳米或0.03%的稳定精度。此外，光学干涉测厚仪的特点是非接触式、无损、精准且快速，能够在不破坏样品的情况下进行厚度测量。它可应用于多种领域，如光学膜涂布、太阳能晶圆、超薄玻璃、胶带、Mylar膜、OCA光学胶、光阻等的测量，也可用于测量手机触摸屏ITO等镀膜厚度、PET柔性涂布的胶厚等厚度、LED镀膜厚度，建筑玻璃镀膜厚度等。另外，一些先进的光学干涉测厚仪还具有构建材料结构的拓展功能，可以对单/多层薄膜数据进行拟合分析，对薄膜材料进行预选模拟设计，结果可以以2D或3D的形式显示。总的来说，光学干涉测厚仪的测量范围广泛，精度高，能够应用于各种薄膜材料的厚度测量。然而，具体能够测量的厚度范围还需根据设备的具体型号和规格来确定，因此在实际应用中，需要根据测量需求选择合适的设备。