二氧化硅膜厚测试仪主要基于光学干涉现象工作，它通过测量单色光在二氧化硅膜层表面和膜与基底界面处的反射光波的相位差来计算二氧化硅膜的厚度。这种测量方式需要高精度的光学系统，以及稳定的光源和探测器来确保测量结果的准确性。
在恶劣环境下，如高温、低温、高湿度、强振动、强电磁干扰等条件下，二氧化硅膜厚测试仪的工作可能会受到一定影响。例如，高温可能导致仪器内部元器件的性能不稳定，从而影响测量精度；高湿度可能导致仪器内部发生凝结，影响光学系统的性能；强振动可能干扰仪器的稳定工作，导致测量结果出现偏差；强电磁干扰可能干扰仪器的电子系统，导致测量数据出现误差。
然而，现代科技不断进步，二氧化硅膜厚测试仪的设计和制造也在不断提升其适应恶劣环境的能力。一些高端型号的仪器可能采用特殊的材料和工艺来增强其在恶劣环境下的稳定性和耐用性。此外，一些仪器还配备了自动校准和错误诊断功能，可以在一定程度上减少环境因素对测量结果的影响。
因此，虽然二氧化硅膜厚测试仪在恶劣环境下可能会面临一定的挑战，但通过选择适当型号和采取必要的保护措施，仍有可能在恶劣环境下进行较为准确的测量。不过，具体的适用性和性能还需根据仪器的具体型号、规格以及实际环境条件来评估。在实际应用中，建议根据具体情况选择合适的仪器，并遵循操作规范，以确保测量结果的准确性和可靠性。