二氧化硅膜厚仪是一种专门用于测量二氧化硅片层或薄膜厚度的高精度仪器。关于它能检测到的最小厚度变化，这实际上取决于多个因素，如设备型号、技术规格以及使用条件等。因此，无法给出一个具体且统一的数值来回答这个问题。
首先，不同型号的二氧化硅膜厚仪在设计和制造上可能有所差异，导致其测量范围和精度各不相同。一些高端的膜厚仪可能具有更高的分辨率和更小的测量下限，能够检测到更微小的厚度变化。
其次，技术规格也是影响最小厚度变化检测能力的重要因素。例如，仪器的光学系统、传感器性能以及数据处理能力等都会直接影响其测量精度和范围。
最后，使用条件也会对二氧化硅膜厚仪的测量结果产生影响。例如，测量环境的温度、湿度以及样品的表面状态等因素都可能对测量结果产生干扰。
尽管无法给出具体的数值，但一般而言，二氧化硅膜厚仪能够精确地检测非常薄的氧化物涂层，包括纳米级别的尺度在内。在实际应用中，根据具体的测量需求和条件，可以选择适合的膜厚仪型号和技术规格，以实现对二氧化硅薄膜厚度的精确测量。
总之，二氧化硅膜厚仪能检测到的最小厚度变化是一个相对复杂的问题，需要考虑多个因素的综合影响。如需更具体的信息，建议查阅相关设备的说明书或咨询专业技术人员。