四氟化碳的用途与作用 :
四氟化碳是可作为氟和自由基氟化碳的来源,用于各种晶片蚀刻工艺。四氟化碳和氧结合用以蚀刻多晶硅、二氧化硅和氮化硅。四氟化碳在通常环境下是相对惰性的,在不通风的地方会引起窒息。在射频等离子体环境中,氟自由基表现为典型的三氟化碳或二氟化碳的形式。高纯度的四氟化碳能很好的控制加工过程,使尺寸和形状得到更好的控制,这不同于其他的卤烃遇到空气或氧气时不利于各种特殊的控制(如半导体各项异性控制)。
四氟化碳在不同的大气压下呈现的状态是不同的,就像氧气在101kPa时会呈现出液态。四氟化碳是无色、无臭、不燃的可压缩性气体,发挥性较高.四氟化碳一般认为是惰性低毒物质,在高浓度下是窒息剂,其毒性不及四1氯化碳。产品经除尘,碱洗除去HF、CoF2、SiF4、CO2等杂质、再经脱水可获得含量约为85%的粗品。将粗品引入低温精馏釜中进行间歇粗馏,通过控制精馏温度,除去O2、N2、H2,得到高纯CF4。
四氟化碳也一样,比如我们公司生产的钢瓶装四氟化碳在14MPA的气压下也是液态的,在正常大气压下就是气态的,四氟化碳是有一定毒性的应该不能用作呼吸。四氟化碳在不同的大气压下呈现的状态是不同的,就像氧气在101kPa时会呈现出液态。四氟化碳是无色、无臭、不燃的可压缩性气体,发挥性较高.四氟化碳是可作为氟和自由基氟化碳的来源,用于各种晶片蚀刻工艺。四氟化碳和氧结合用以蚀刻多晶硅、二氧化硅和氮化硅。
电子四氟化碳是目前半导体行业主要的等离子体蚀刻气体之一,在硅、二氧化硅、金属硅化物以及某些金属的蚀刻,以及低温制冷、电子器件表面清洗等方面被广泛应用。而电子特气系统为它保驾护航,保证四氟化碳(CF4)的纯度和安全稳定使用。在填有氢氧化铬的高温镍管中进行,反应后的气体经水洗、碱洗除去酸性气体,再通过冷冻,用硅胶除去气体中的水分,经精馏而得成品。由碳与氟反应,或与氟反应,或碳化硅与氟反应,或氟石与石油焦在电炉里反应,都能生成四氟化碳。
以上信息由专业从事四氟化碳批发的安徽谱纯于2024/5/19 5:51:09发布
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