近年来,随着科技的不断发展,越来越多的技术被应用到各个领域中。其中,等离子放电原理技术在表面微观整平领域发挥着重要作用。利用这一技术,可以让放电通道更多地是在微观凸起的位置形成,从而优先去除该位置的材料,从而达到表面微观整平的效果。抛光开始阶段,粗糙度下降速度较快,但随着抛光时间的延长,该趋势逐渐减弱。通过分析离子放电原理,探究其对微观凸起位置材料的优先去除效果。研究表明,在抛光开始阶段,由于样件表面存在明显凹凸不平的状态,离子在凸起处更加集中,放电通道更多地选择在凸起的位置形成,从而使粗糙度下降速度较快。但随着抛光时间的延长,样件凹凸不平的状态得到改善,放电通道更多在微观凸起位置形成的趋势减弱,从而使粗糙度下降的速度减小。
为什么不同材料用不同的抛光盐等离子抛光是靠物理、化学反应同时存在、物理反应离子轰击只是有各方面,抛光盐不对是打不到抛光效果的,化学微腐蚀起到至关重要的作用。化学微腐蚀必须和工件表面通电时起反应、抛光盐必须对工件的材料在通电情况下发生微腐蚀方能起到抛光作用,使用不同材料会有不同的抛光盐去对应它,抛光盐成分和量的多少起到至关重要的作用。八溢自动化设备有限公司配置的抛光盐可以针对各种全属材料做专门的对应,达到工件抛光去毛刺功效。欢迎咨询。
等离子抛光未来的发展方向是什么?等离子抛光是近十年才被世人认知和接受的,它的出现让抛光变得简单方便,只需工人做简单的操作、即可操作机台。工艺流程简短、比起传统的手工抛光有很大的优势、而且有属于环保型抛光设备、加上配套处理设备实现零排放、在环保要求越来越严格的今天、一些污染的抛光一定会被取代、等离子抛光将会在未来成为抛光的主流。八溢自动化设备有限公司生产的等离子抛光去毛刺设备,设计到位,简单去除毛刺。欢迎来电!
等离子技术抛光过程中理想的抛光温度是多少?抛光液的温度越低,材料的去除速度越快。低温条件下材料的去除速度快主要是因为: 温度越低,抛光液被蒸发需要吸收的热量就越多,相同条件下生成的气体越少,包围在零件周围的混合气体层越薄,而在压强和电压不变的情况下,气体变薄就意味着电场强度增大,导致碰撞电离系数显著增大,虽然总的碰撞距离减小,但仍然有更多的电子冲击到工件表面,材料的去除速度当然更快。但在抛光液低温情况下,混合气体层较薄,也意味着气体层不太稳定,等离子抛光过程中断并转变一般电解的的可能性越大,同时气体层薄也意味着系统的电阻减小,电流增大,且电流值大幅度变化,常常引起零件尖锐部位烧蚀等现象,这对复杂形状零件和大尺寸零件来说特别明显。随着抛光液温度的提高,等离子纳米抛光过程开始稳定,90-100属于理想加工温度范围,在这一范围内材料的去除速度虽然不是快,却更容易获得更好的表面质量。温度继续升高将导致抛光液气化增强,混合气层温度升高厚度增加,加工时间也相应延长。当抛光液温度达到95-99°C时,等离子加工过程转到泡沫状态。抛光液沸腾,蒸气气层失去自身的尺寸和形状整个零件处于连续移动的泡沫中,其电阻与等离子理想加工状态的气层电阻值相比大大提高,此时被加工表面电流也会减小。
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