塑胶真空电镀是一种物理沉积现象。即在真空状态入气,气撞击靶材,靶材分离成分子被导电的货品吸附形成一层均匀光滑的表面层。一般塑胶真空电镀的做法是在素材上先喷一层底漆,再做电镀.由于素材是塑料件,在注塑时会残留空气泡,有机气体,而在放置时会吸入空气中的水分.另外,由于塑料表面不够平整,直接电镀的工件表面不光滑,光泽低,金属感差,并且会出现气泡,水泡等不良状况.喷上一层底漆以后,会形成一个光滑平整的表面,并且杜绝了塑料本身存在的气泡水泡的产生,使得电镀的效果得以展现。二代光学镀膜原理20世纪80年代以后,研究人员从理论上发现磨损产生的机理不仅仅与硬度相关,膜层材料具有“硬度/形变”的双重特性,即有些材料的硬度较高,但变形较小,而有些材料硬度较低,但变形较大。
PVD真空镀膜过程非常复杂,由于镀膜原理的不同分为很多种类,仅仅因为都需要高真空度而拥有统一名称。所以对于不同原理的PVD真空镀膜,影响均匀性的因素也不尽相同。并且均匀性这个概念本身也会随着镀膜尺度和薄膜成分而有着不同的意义。
薄膜均匀性的概念:
1.厚度上的均匀性,也可以理解为粗糙度,在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位,约为100A),真空镀膜的均匀性已经相当好,可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内,也就是说对于薄膜的光学特性来说,真空镀膜没有任何障碍。纳米镀膜技术及研发使用配方,能在金、银、钨、钴、钯等不同表面形成2-10nm厚度左右的镀层,从而使金属表面具有良好的耐磨性、导电性能、耐腐蚀、耐高温、防氧化及改变表面张力等特性,从而提升材料性能,可以的改善产品品质。
印制电路组件和元器件
随着表面贴装技术发展和元器件的日益小型化,印制电路组件也日益向小型化和高密度方向发展,这给印制电路组件的三防措施提出了新的要求。传统使用的环氧树脂、聚氯脂、有机硅树脂、聚脂等防护涂料都是液体涂料。
由于液体的粘度和表面张力等原因,涂层厚度不均匀,在棱、角等处涂层较薄,当元器件之间,基板之间仅有很小间距时,会因涂层流不到而形成气隙。涂层固化,烘干后会因溶剂或小分子助剂的挥发,产生收缩应力或形成微小。
真空镀膜——也称为“薄膜技术”;或物理气相沉积 (PVD) — 在真空技术的各种应用中占有令人印象深刻的份额。在这篇博文中,我们分享了历史发展的概述、支持薄膜生成的各种基本原理以及涂层设备的总体布局。
薄膜是表面上的材料层,厚度远低于纳米,高可达微米。用薄膜涂覆设备有多种原因。举几个例子: 防止腐蚀的保护膜、珠宝或浴室配件上的装饰层、工具磨损保护、多层以改善眼睛镜片的光学性能、半导体或太阳能电池生产、触控面板生产、汽车行业的抬头显示器、反光灯的镜子、保鲜包装箔、建筑玻璃保温、指肠镜。厚度上的均匀性,也可以理解为粗糙度,在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位,约为100A),真空镀膜的均匀性已经相当好,可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内,也就是说对于薄膜的光学特性来说,真空镀膜没有任何障碍。
以上信息由专业从事真空微米镀膜厂家的拉奇纳米镀膜于2024/7/5 7:52:15发布
转载请注明来源:http://m.tz1288.com/qynews/dglqnm-2780749089.html