镀膜有许多优点,如设备与工艺相对比较简单,即可沉积非常纯净的膜层,又可制备具有特定结构和性质的膜层等等,仍然是当今非常重要的镀膜技术。镀膜系统一般由三个部分组成:真空室、蒸发源或蒸发加热装置、放置基板及给基板加热装置。在真空中为了蒸发待沉积的材料,需要容器来支撑或盛装蒸发物,同时需要提供蒸发热使蒸发物达到足够高的温度以产生所需的蒸汽压。
镀膜机是一种用于材料科学领域的工艺试验仪器,磁溅射镀膜机是一种普适镀膜机,用于各种单层膜、多层膜和掺杂膜系。可镀各种硬质膜、金属膜、合金、化合物、半导体、陶瓷膜、介质复合膜和其他化学反应膜,亦可镀铁磁材料。主要用于实验室制备有机光电器件的金属电极及介电层,以及制备用于生长纳米材料的催化剂薄膜层。
蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。
以上信息由专业从事有机高分子镀膜设备制造商的拉奇纳米镀膜于2024/5/23 10:20:12发布
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