空镀膜是真空应用领域，而光学镀膜是指在光学零件表面镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺。
真空镀膜是以真空技术为基础，采用物理或化学方法，吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频、磁控等一系列新技术。光学镀膜是一种物理或化学方法，在材料表面涂上一层透明的电解质膜，或一层金属膜，目的是改变材料表面的反射和透射特性。
如何测量真空镀膜机的厚度?
理想的膜厚是基片表面与膜表面之间的距离。在薄膜形态的三维测量中，其他二维测量相对于薄膜厚度可以说是大的。由于实际表面是不均匀、不连续的，而且膜内部可能存在气孔、杂质、晶格缺陷、表面吸附分子等，实际上很难严格定义和准确测量膜的厚度。薄膜厚度的定义取决于寻址方法和寻址目的。因此，相同的薄膜，采用不同的测量方法会得到不同的结果，即不同的厚度。
薄膜油的表面测量不是一个几何概念，而是一个埋藏的概念，指的是表面分子(原子)的集合。平均表面指的是表面上所有原子的点对这个表面的代数和等于零。
我们通常把底物一侧表面分子集合的平均表面称为底物表面;膜边表面的平均表面称为膜的形状表面。将测量到的薄膜原子重新排列，使固体材料的密度和体积完全一致，均匀地分布在基体表面。那么平均表面称为薄膜质量当量表面。根据被测薄膜的物理性质，将其等效为与被测薄膜长、宽相同的大型固体材料薄膜，则其平均表面称为薄膜物理等效面。
真空镀膜设备主要是指一类必须在比较高真空值中进行的镀晶，实际包括很多类型，包含真空泵离子挥发，射频溅射，MBE分子束外延性，PLD激光器磁控溅射堆积等好几种。关键思路是分为挥发和磁控溅射二种。
以上信息由专业从事气相沉积设备工厂的拉奇纳米镀膜于2024/8/1 11:15:31发布
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