避免频繁的温度和湿度波动对镀膜过程产生不利影响。可以通过安装温度和湿度控制系统来自动调节室内环境,确保其在理想范围内保持稳定。
在镀膜过程中,注意防止灰尘和杂质的进入。保持操作环境的整洁,使用空气过滤器和干燥的环境来减少污染物的影响。
定期对镀膜设备进行维护和清洁,确保其处于良好的工作状态。
磁场产生:在磁控溅射镀膜设备中,存在一个由电源产生的磁场。这个磁场用于控制电子的运动轨迹。
电子运动:在磁场的作用下,电子围绕靶材表面运动,并且在运动过程中会与靶材表面的原子发生碰撞。这种碰撞使得靶材表面的原子被激发并从表面飞出。
E×B漂移:在电场和磁场的共同作用下,产生的二次电子会产生E(电场)×B(磁场)所指的方向漂移,简称E×B漂移。其运动轨迹近似于一条摆线。若为环形磁场,则电子就以近似摆线形式在靶表面做圆周运动。
溅射现象:当靶材表面的原子被激发并飞出时,它们会沉积在基底表面形成薄膜。这个过程是通过溅射现象实现的,即高能粒子或高速气流等能量源对固体表面进行轰击,使得固体表面的原子或分子被激发并离开固体表面,然后在真空中飞行并沉积在基底表面。
沉积速率:由于电子在靶材表面附近的等离子体区域内被束缚并电离出大量的Ar+离子来轰击靶材,从而实现了高的沉积速率。
以上信息由专业从事UH850派瑞林镀膜设备公司的拉奇纳米镀膜于2024/8/1 7:35:24发布
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