桌面光刻机
曝光光源：紫外LED光源波长：365nm;曝光面积：4英寸、6英寸可选；曝光方式：单面接触式定时曝光；曝光分辨率：2um；曝光强度：20~200mW/cm2可调；曝光不均匀性：≤5%；光源平行性：≤2°；光源寿命：≥20000h；电源输入：AC220V±10V，50HZ功率：250W重量：25kg外形尺寸：382（长）*371（宽）*435（高）工作环境：温度0℃-40 ℃，相对湿度＜80 %
热板
温度：0~300℃温度稳定性：±1℃功率：850W台面大小：200x200mm
公司团队拥有丰富的经验和技术积累，持续将专ye知识与创新思维相结合，为客户提供高品pin质的解决方案。我们将始终坚持以客户为中心，不断挑战自我，不断追求卓yue，通过专ye、创新和合作，为客户创造更大的价值，共同kai创微流控领域的美好未来。
显微镜
观察头：铰链式三目观察头，30°倾斜，瞳距48～75mm目镜：超大视野目镜 10X/22无xian远平场消色差物镜：4X/0.1，10X/0.25，20X/0.4，40X/0.65转化器：四孔转换器载物台：载物台面积300×268mm，移动范围250×250mm焦距调节：同轴粗微动调焦机构，行程24mm照明系统 ：6V20W卤素灯，亮度可调滤色镜 蓝色、黄色、绿色、磨砂玻璃片
微流控芯片加工设备： 提供丰富多样的微流控芯片加工设备，涵盖SU8模具加工、PDMS芯片加工和玻璃芯片加工。可以帮助客户在自己的实验室内进行微流控芯片的快速制作，从而提高实验效率和灵活性。
耗材
硅片
硅片没有特殊要求，单面抛光即可。制备SU8模具时在硅片抛光旋涂光刻胶。
光刻掩膜板
光刻掩膜版（又称光罩，英文为Mask Reticle），简称掩膜版，是制备SU8模具光刻工艺所使用的图形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成微结构掩膜图形，通过曝光过程将微结构图形信息转移到SU8光刻胶涂层上，实现微结构的jing确复zhi。光刻掩膜版，一般可分为菲林掩膜版和玻璃掩膜版两种。
以上信息由专业从事匀胶机介绍的顶旭于2024/7/16 11:47:03发布
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