广州潽拓光电科技有限公司--爱发科涡轮分子泵技术服务维修；
脉冲激光沉积系统PLD客户案例：某大学电信系脉冲激光沉积系统
1.系统功能：主要用于Mn氧化物等复杂材料膜。
2.涡轮分子泵真空度要求:真空度
3.样品尺寸:6英寸
4.基片旋转,加热温度：750℃
5.膜生长控制模式:镀率/厚度/时间控制模式
真空系统配置:超高真空系统配置:涡轮分子泵400
接口:DN100CF-F
极限真空:
氮气压缩比:>1X1011涡轮分子泵80
接口:DN63CF-F
极限真空:
氮气压缩比:>1X1011隔膜泵MVP040
口径:G1/4”
极限真空:≦5mbar
抽速:2.3m3/h
涡轮分子泵抽速范围10至2700L/S,转速很高90,000rpm,极限真空很大1E-11mbar,对小分子气体具有更高的压缩比,实践证明涡轮分子泵运行时间可以达到100,000小时!分子泵提供复合轴承分子泵和五轴全磁浮分子泵二大系列满足不同应用,推荐搭配旋片泵和干泵共同使用.更多分子泵典型应用>>
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分子泵油池安装注意事项①、拆油②、油量控制③、油池卫生，防颗粒④、对好、对称上紧螺钉，防止有漏
3进出口法兰、冷却水安装①、泵入口：对正、对称拧紧②、泵出口：防止错位③、冷却水：无漏水；入口水压0.2MPa；水温20±５℃；水质澄清无沉淀注意：环境温度：风冷需小于32℃;水冷可至40℃入口压强：强制风冷
电缆安装注意事项①、对正槽口插入②、用螺母拧紧，边插边拧③、检查到位
5振动隔离、冲击防护
1分子泵振动，可直接接于被抽系统。对于高精密仪器的应用（如电子显微镜），建议使用隔振器，以便很大可能的减少振动。2冲击防护：高速旋转、间隙很小、柔性支撑机械振动（预抽泵、前级泵、机械动作等）
气体振动（气量突变、压强突变）
意外振动（掉入异物、碰撞等）注意：没有对泵进行必要防护，容易造成分子泵严重的破坏、甚至碎泵。
6大气载、热气体、突变气载
a引起问题：温度升高；动静片变形；转子上移；润滑失效5℃原则；轴承失效b.措施：加大水冷；增加冷却装置；缩短换油时间
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真空泵常规性能参数测试:抽速、压缩比等性能参数是分子泵设计之初就要首先考虑的，也是各项设计调整优化的重要目标。很终产品定型时，对外发布的各项参数和曲线，比如下图的抽速和压缩比曲线，都来自于这些测试的结果。这些测试都有相关的，在此不再展开描述。在泵处于垂直、水平和倒立状态时，各进行6次冲击测试所测试的泵在24次跌落后无任何问题（不发生转子机械接触，泵运行状态不变）。
在每次跌落后验证泵的不平衡性，结果表明变化，远低于阈值。抗振动测试通过对一批泵（处于运行和非运行条件下）进行一系列测试，证明对外部源产生振动的耐受性在105分钟的振动周期中，全转速和不运行的每个泵在垂、水平、倒立方向上受到0.5–2g加速度水平的振动。该测试证实了泵的稳定性以及耐振性，因为未观察到转子机械接触或泵运行状态的改变，且泵不平衡性仍然远低于阈值。
温度测试将泵置于–40°C至+70°C（处于非运行状态）以及0°C至40°C（处于运行状态）下暴露86小时。对每个泵的不平衡性和是否可正常操作验证11次，结果显示仅存在的变异，远低于阈值。温度测试证实了泵在各种预期运行和非运行温度条件下的稳定性。傅立叶振动分析在制造过程中以及泵运输前的很后测试中，对每台泵的振动频谱进行验证。全速下的平均很大振动水平：0.4m/s2。
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通用的沉积技术有化学气相淀积（CVD）、蒸发和溅射PVD。一般来说，其中还要夹杂低温（≤500℃）退火工艺等热处理工艺，用以增进金属层和半导体之间的低电阻接触、消除内应力等。设备运行过程中需要高洁净的真空环境，一般采用以磁悬浮分子泵为主的无油真空系统。
刻蚀是用化学或物理方法有选择地从硅片表面去除不需要材料的过程。刻蚀的基本目标是在涂胶的硅片上正确地掩膜图形。现代化的干法刻蚀设备包括复杂的机械、电气和真空系统，同时配有自动化的刻蚀终点检测和控制装置。刻蚀应用工况复杂，清洁性差，充入特种气体种类繁多，因此需要特殊处理的干泵和磁悬浮分子泵。
离子注入设备：离子注入是指在真空环境下，当离子束射向固体材料时，受到固体材料的抵抗而速度慢慢减低下来，并很终停留在固体材料中的现象。离子注入是半导体表面附近区域进行掺杂的主要技术，其目的是改变半导体的载流子浓度和导电类型。离子注入机是集成电路制造工序中的关键设备，需要高清洁的真空环境，以保证离子掺杂浓度和剂量的准确性。
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以上信息由专业从事爱发科涡轮分子泵技术服务的潽拓光电于2024/5/1 10:20:02发布
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