镀钛是作为金属材料的表面处理的一种工艺,现在已经在工业领域普遍应用并有逐渐推广使用的意向。
在二十世纪七十年代末,人类就已经开始物理气相沉积技术,即PVD技术。物理气相沉积技术可以应用在硬质膜的制造上,它能够提高产品的机械化学性能,使制造出的产品具有高耐磨性、高硬度等性能,还可以减轻摩擦作用。这种技术在刚开始使用时,就在世界各国的工具制造业引起了巨大的反响,受到了高度重视。它的离子蒸发源靠电焊机电源供电即可工作,其引弧的过程也与电焊类似,具体地说,在一定工艺气压下,引弧针与蒸发离子源短暂接触,断开,使气体放电。同时,这种技术工艺符合现代人们对环境无污染加工技术的要求,是一种绿色环保的技术。
镀钛板种类多,有镀钛毛丝面板、镀钛镜面板及镀钛乱纹板和镀钛雾珠板等,在经过设计师的巧思之下,不同面材可以呈现出不同的空间表现,在使用上,也可以带出线条的俐落、几何的造型等趣味感。目前,镀钛材质常被运用在室内公共空间,如餐厅、客厅或玄关。但如果预算上许可,大也可以用在更衣间或卧房,或设计于桌面。此外,多弧镀涂层颜色较为稳定,尤其是在做TiN涂层时,每一批次均容易得到相同稳定的金黄色,令磁控溅射法望尘莫及。使用镀钛镜面板,其反光效果好,可以让视觉空间变得前卫。
真空镀钛是指在真空的环境下,采用弧光放电,把阴极钛靶作为蒸发源,通过钛靶与阳极机体之间的弧光放电,使钛靶材蒸发并形成离子体,产生的离子体高速向产品上运动,在产品表面进行沉积,形成了钛膜层。要想镀出坚固的钛层,首先要有好的设备。因为在镀膜过程中,真空系统必需要工作稳定,炉体保压要好,如果在镀膜过程中有杂气掺入,颜色就会不理想,严重的还会脱钛。电弧源的形式有交流电弧放电、直流电弧放电和电子轰击电弧放电等形式。靶材承受的功率密度是有限的.靶面温度过高会导致靶材熔化或引起弧光放电.在直接水冷的情况下,金属靶材的靶功率密度允许值为10~30W/cm2.根据选定的靶电压和允许的靶功率密度,即可确定靶电流密度.
降低Ar压强有利于提高镀膜速率,还有利于提高膜层结合力和膜层致密度.磁控溅射的Ar压强通常选为0.5Pa,气体放电的阻抗随Ar压强的降低而升高.磁控溅射时,可以适当调节Ar压强,
以上信息由专业从事金属表面镀钛加工服务电话的金常来于2024/5/4 12:33:26发布
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