PVD是英文Physical VaporDeition(物理气相沉积)的缩写,是指在真空中将钛、金、石墨、水晶等金属或非金属、气体等材料利用溅射、蒸发或离子镀等技术,在基材上沉积形成不同颜色和质感的薄膜。PVD膜层赋予产品表面金属质感和丰富的颜色,并改善耐磨、耐腐蚀性,延长寿命。已经广泛应用于表壳、表带、手机壳、建筑五金、模具刀具等产品。点可蒸发任何材料薄膜纯度高直接作用于材料表面,热缺点电子枪结构复杂,造价高化合物沉积时易分解,化学比失调3激光蒸发镀膜采用高能激光束对材料进行蒸发,用以形成薄膜的方法,一般称为激光蒸镀。
离子镀
在真空条件下,利用气体放电使气体或被蒸发物质部分电离,并在气体离子或被蒸发物质离子的轰击下,将蒸发物质或其反应物沉积在基片上的方法。可将离子发生源与工作室分离,克服了溅射镀膜为了持续放弧而必须保持较高的工作气压的缺陷,高能离子对衬底和沉积薄膜表面的轰击保证了薄膜的附着力和质量,是一种结合了蒸发镀膜和溅射镀膜优势的PVD技术。不锈钢镀钛加工厂家在进行不锈钢镀钛加工之前都会做些什么预备工作,首先说说不锈钢镀钛厂家在镀钛加工加工前应该预备的东西,一台清洗烘干机,那么清洗烘干机的作用是铲除钢带上残留的脱落的磨料,以及一些残屑等异物,清洗之后切记要一定要烘干。
根据离化方式的不同,常用的离子源有考夫曼离子源、射频离子源、霍尔离子源、冷阴极离子源、电子回旋离子源等。
溅射技术:
溅射技术按产生等离子体的方式可分为:
a. 利用直流辉光放电的二极溅射;
b. 利用热丝弧光放电的三极溅射;
c. 利用射频放电的射频溅射;
d. 利用封闭跑道磁场控制辉光放电的磁控溅射.
2 磁控溅射阴极结构:
目前工业用磁控溅射装置主要是采用矩形平面磁控溅射阴极(图a),一般使用的靶材尺寸有两种规格: VT机:长×宽×厚(450.5×120×6)mm; ZCK机: 460×100×6.圆柱形磁控溅射阴极也逐步运用到生产当中(图b),两者相比,平面靶材的利用率只有20~30%,即利用率低.
以上信息由专业从事真空镀钛服务电话的金常来于2024/7/15 10:30:38发布
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