镀钛处理工艺是使用多种材料的涂层技术,其加工温度需保持在150摄氏度以上,但不能超过500摄氏度。镀钛不仅能使工具丰富多彩,也是工具达到一定硬度的效果,采用PVD技术,使工具具有优异的性能。
镀钛是一种通用涂层加工工艺,很多人对于镀钛的主要特点不是很了解,那么,镀钛的主要特点是什么呢
1、镀钛指的是在温度较高的钛金炉内,将钛、锆等金属除去空气,同时凭借惰性气体的辉光放电
而镀钛呢,技术虽然与镀金、镀银有着相同之处,但是由于钛的本身特质决定,镀钛实际上是在物体的表面利用电的化学办法镀上了一层钛膜,它与我们常说的水镀差不多。离子镀在真空条件下,利用气体放电使气体或被蒸发物质部分电离,并在气体离子或被蒸发物质离子的轰击下,将蒸发物质或其反应物沉积在基片上的方法。听说镀钛采用的水镀工艺就是我们比较熟知的电镀工艺。据说,电镀工艺霸占了很长时间的镀膜工艺市场,主要因为它本身具有的毒性非常大,因此市场才逐渐缩小。在靶材和衬底之间加上一个直流高压,极板间的气体(一般为Ar2)电离,高速带电离子轰击靶材表面的溅射镀膜技术。解决方案:缩短产品在炉外停滞时间及炉内洁净度管控,减少异物掉落在产品表面。要保持自持放电,在两极板间距为数厘米的正常溅射间距下,放电气压一般高达10帕,这对溅射效率和薄膜质量都是不利的。因此,直流溅射多采用非自持放电,也就是加入热电子发射极和辅助阳极的四极溅射,可使溅射在10-1~10-2帕的低气压下进行。基片置于合适的位置是获得均匀薄膜的前提条件.
b、压强的大小. 为了保证膜层质量,压强应尽可能低Pr≦(Pa)
L表示蒸发源到基片的距离为L(cm)。
c、蒸发速率.蒸发速率小时,沉积的膜料原子(或分子)上立刻吸附气体分子,因而形成的膜层结构疏松,颗粒粗大,缺陷多;反之,膜层结构均匀致密,机械强度高,膜层内应力大.
d、基片的温度.在通常情况下,基片温度高时,吸附原子的动能随之增大,形成的薄膜容易结晶化,并使晶格缺陷减少;基片温度低时,则没有足够大的能量供给吸附原子,因而容易形成无定形态薄膜.
以上信息由专业从事装饰镀钛厂家价格的金常来于2024/5/10 12:43:20发布
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