PVD是英文Physical VaporDeition(物理气相沉积)的缩写,是指在真空中将钛、金、石墨、水晶等金属或非金属、气体等材料利用溅射、蒸发或离子镀等技术,在基材上沉积形成不同颜色和质感的薄膜。PVD膜层赋予产品表面金属质感和丰富的颜色,并改善耐磨、耐腐蚀性,延长寿命。面对这些严格要求,传统的零件加工办法和表面处理技术已经达不到标准。已经广泛应用于表壳、表带、手机壳、建筑五金、模具刀具等产品。
感应加热式蒸发镀膜
利用高频电磁场感应加热,使材料汽化蒸发在基片表面凝结成膜的技术。
优点蒸发速率大,可比电阻蒸发源大10倍左右 蒸发源的温度稳定,不易产生飞溅现象坩埚温度较低,坩埚材料对膜导污染较少缺点蒸发装置必须屏蔽造价高、设备复杂
在真空中,高能粒子轰击材料表面,使其原子获得足够的能量而逸出表面,到达衬底凝结成膜的技术。
与真发镀膜相比,溅射镀膜适用于所有(包括高熔点)材料,具有附着力强、成分可控、易于规模化生产等优点。
但其工作气压低于蒸发镀膜,因此膜层的含气量和孔隙率大于蒸发镀膜。
镀层附着性能好
普通真空镀膜时,在工件表面与镀层之间几乎没有连接的过渡层,好似截然分开。而离子镀时,离子高速轰击工件时,能够穿透工件表面,形成一种注入基体很深的扩散层,离子镀的界面扩散深度可达四至五微米,对离子镀后的试件作拉伸试验表明,一直拉到快要断裂时,镀层仍随基体金属一起塑性延伸,无起皮或剥落现象发生,可见附着多么牢固,膜层均匀,致密。据说,电镀工艺霸占了很长时间的镀膜工艺市场,主要因为它本身具有的毒性非常大,因此市场才逐渐缩小。
以上信息由专业从事金属表面镀钛厂家服务电话的金常来于2024/7/11 11:06:49发布
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