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真空镀膜
真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料,使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法。例如,真空镀铝、真空镀铬等。
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简述
真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面,它是以真空技术为基础,利用物理或化学方法,并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术,为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说,在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射,使其在被涂覆的物体(称基板、基片或基体)上凝固并沉积的方法,称为真空镀膜。
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真空镀膜应用
具体方法是将基材安置于真空容器中的一可调遮板的缝隙之上,加热的金属在真空中逐渐汽化为金属蒸汽后穿过此缝隙而喷镀于基材上;基材则由卷动机构使其以需要的速率卷绕。因此,蒸镀的金属扫描成蒸镀面积,使在基材上均匀蒸镀一层金属超薄层而成为镀金属薄膜。此技术1先应用于制造香1烟的内包装纸,随后应用于制造糖果、茶叶的包装袋材料,后被广泛应用于包括制镜在内的各种需要镀膜的工件上,可以达到意想不到的效果和功能。
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开发成功
过去无论是直接法或转移法生产真空镀金属薄膜,均是间隙式成批进行的。其方式是单炉生产,逐次抽成真空。亦即将卷筒状被蒸镀基材装人真空蒸镀炉中后,按规定要求抽成真空,并开始蒸镀。待该卷基材全部蒸镀完毕,打开炉门,解除真空状态,取出成品。再开始以同样工序进行第二炉生产。如此周而复始,生产速率既受影响,劳动强度亦大,动力浪费亦多,不符合近代工业大规模连续生产的要求。
以上信息由专业从事昆山真空膜的昆山杰宝森包装于2024/7/16 8:03:44发布
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