派瑞林涂层是化学气相沉积法，是反应物质在气态条件下发生空间气相化学反应，在固态基体表面直接生成固态物质，进而在基材表面形成涂层的一种工艺技术。派瑞林薄膜制备过程分为三步：单体的汽化、裂解、在基材表面进行附着沉积。
紫外线照射的薄膜与未曝光的薄膜之间的故障时间之间的巨大差异为聚对二C和N的正确使用条件提供了重要的认识。聚对二D，C，N，AF4的化学结构定义了由于紫外线引起的降解接触。聚对二N是未取代的烃分子，聚对二C每个重复单元具有一个加氯基，聚对二D每个重复单元具有两个加氯基。相比之下，聚对二AF4用氟原子取代了化学品苯环上的氢原子，从而大大增强了其紫外线稳定性。
由于PVD涂层能提供更好的边缘保持力，防止氧化和腐蚀，在切削过程中保持清晰，不会与骨骼、组织或体液发生反应，故而，越来越多都用于，例如锋利的手术器械、针头、钻头、、各种装置组件以及应用的“磨损”部件。PVD功能性硬涂层(如DLC，TIN)已广泛应用在不锈钢零部件上，作用是可减少摩损和延长零部件寿命，但因为涂层本身有缺陷和，所以使用在一些 耐腐蚀要求高的环境下，效果不佳。PVD功能膜配合纳米透明膜是目前更理想的解决方案：PVD涂层提供耐磨性，纳米透明膜提供耐腐蚀性。
PVD工艺一般只是直线沉积，对形状复杂，纵横比高或有深孔的工件是难以得到均匀的厚度。纳米透明膜可解决这问题，无论形状多复杂，每个位置的膜厚都是一致的，没有大偏差。
1、派瑞林真空镀膜设备有效应用于磁性材料领域，派瑞林的制备工艺和优异性能相结合，使它能对小型超小型磁材进行无薄弱点全涂敷的磁材可浸盐酸10天以上不腐蚀，目前国际上小型或者超小型磁材，几乎都采用派瑞林镀膜工艺作绝缘和防护涂层。
2、派瑞林真空镀膜设备有效应用于印制电路组件和元器件领域，镀膜材料通过派瑞林真空镀膜设备使得活性的对二双游离基小分子气在印制电路组件表面沉积聚合完成。气态的小分子能渗透到包括贴装件下面任何一个细小缝隙的基材上沉积，形成分子量约50万的高纯聚合物。
3、派瑞林真空镀膜设备有效应用于微电子集成电路领域，派瑞林的真空气相沉积工艺不仅和微电子集成电路制作工艺相似，而且所制备的派瑞林涂层介电常数也低，还能用微电子加工工艺进行刻蚀制图，进行再金属化，因此派瑞林（Parylene）不仅可用作防护材料，而且也能作为结构层中的介电材料和掩膜材料使用，经派瑞林（Parylene）涂敷过的集成电路芯片，其25um细直径连接线，连接强度可提高5-10倍。
以上信息由专业从事弹簧派瑞林镀膜技术的菱威纳米于2024/7/20 11:34:32发布
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