微弧氧化膜层生长时，首先在基体表面发生化学反应，生成一层阳极氧化膜。当增大反应电压时，膜层厚度会进一步增加，厚度会随之增加。但是当反应电压增加到一定程度时，膜层会由于不能承受该工作电压发生放电再击穿，产生等离子放电。反应的高温将使膜层发生熔融，基体元素由于处在富氧环境中，将形成氧化物。同时由于是在电解液中，熔融物将瞬间冷凝，在基体表面生成一层陶瓷。陶瓷膜的生成，将导致工作电压进一步升高，膜层再次被击穿，膜层厚度进一步增加。周而复始，膜层得以生长。
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采用微弧氧化技术对2A12、3A21两种铝合金基材加工的零件进行处理，并在模拟海洋大气环境的条件下，依据GJB150.11A-2009的要求对处理后的零件进行盐雾试验，研究铝合金微弧氧化膜层的腐蚀行为。结果表明，2A12铝合金经微弧氧化处理得到的黑色膜层光泽度低，具有良好的消光作用，微弧氧化膜层经酸性盐雾试验96 h后，出现不同程度的腐蚀脱落。
时间对微弧氧化封孔膜层增厚的影响
在其他工艺参数相同的情况下，不同封闭时间对陶瓷膜膜层增厚的影响。封闭时间较短时，膜层增厚较少；随着时间的延长，膜层逐渐增厚；但是封闭时间过长，如封闭时间超过60min后，膜层增厚并不显著，而且有下降的趋势。
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以上信息由专业从事进口微弧氧化电源的日照微弧技术于2024/7/6 10:42:58发布
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