相比MoO3,加入钼质量浓度相同的Na2MoO4所得膜层耐蚀性更佳,在添加0.42g/L Na2MoO4时制得膜层其腐蚀电流密度比无添加剂时的低约7倍,比基体的低约1个数量级。故加入Na2MoO4的价比更高。
此外,这2种添加剂的加入,均可在AZ91D镁合金表面制得浅棕色的膜层,起显色作用的物质是MoO2。
微弧氧化技术广泛用途
微弧氧化技术广泛运用于航空航天、航空公司、机械设备、交通出行、石油化工设备、纺织品、包装印刷、电子器件、轻工业、诊疗等领域。微弧氧化技术的应用推广已获得基本成效。该成效在航空航天、车辆、机械设备、电子器件、纺织品、轻工业、等领域中激发了一股应用微弧氧化技术的风潮。微弧氧化技术是近几年国内盛行的高新科技技术,是原材料表面改性材料的一种关键方式。
什么是微弧氧化技术?
微弧氧化技术是近几年国内外发展较快的一项高新技术。
该技术的基本原理及特点:微弧氧化或微等离子体表面陶瓷化技术,是指在普通阳极氧化的基础上,利用弧光放电增强并会在阳极上发生的反应。
使工件表面的金属与电解质溶液相互作用,在工件表面形成微弧放电,在高温、电场等因素的作用下,金属表面形成陶瓷膜。(内容仅供参考)
微弧氧化技术工艺特点
微弧氧化从普通阳极氧化发展而来,其装置包括专门用的高压电源、氧化槽、冷却系统和搅拌系统。氧化液大多采用碱性溶液,对环境污染小。溶液温度以室温为宜,温度变化范围较宽。溶液温度对微弧氧化的影响比阳极氧化小得多,因为微弧区烧结温度达几千度,远高于槽温,而阳极氧化要求溶液温度较低,特别是硬质阳极氧化对溶液温度限制更为严格。微弧氧化工件的形状可以较复杂,部分内表面也可处理。此外,微弧氧化工艺流程比阳极氧化简单得多,也是此技术工艺特点之一。
以上信息由专业从事微弧氧化技术 参数的日照微弧技术于2024/7/9 7:21:11发布
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