温度对微弧氧化的影响
微弧氧化与阳极氧化不同,所需温度范围较宽。微弧氧化电解液组成及工艺条件微弧氧化电解液组成:K2SiO35~10g/L,Na2O24~6g/L,NaF0。一般为10—90度。温度越高,成膜越快,但粗糙度也增加。且温度高,会形成水气。一般建议在20—60度。由于微弧氧化以热能形式释放,所以液体温度上升较快,微弧氧化过程须配备容量较大的热交换制冷系统以控制槽液温度。所以微弧氧化过程中一定要控制好温度。微弧、微弧氧化、微弧氧化技术、微弧氧化电源
微弧氧化抹的特点
微弧氧化处理后的铝基表面陶瓷膜层具有硬度高,耐蚀性强,绝缘性好,膜层与基底金属结合力强,并具有很好的耐磨和耐热冲击等性能。随着电压的继续不断升高,氧化膜的表面会出现辉光放电,微弧和火花放电灯现象。微弧氧化的合适放电区间较窄,要求对放电后的电参数控制比较好,大电流、高电压对供电电源提出了高要求,由于对微弧氧化本质认识限制,使得电源的设计及制造仍停留在经验摸索层面上,带有很大的盲目性。微弧氧化技术、微弧氧化生产线、微弧氧化电源
微弧氧化是轻金属在其特定的电解液及电场条件下,原位生长陶瓷膜的新技术。当外加脉冲电压超过一定值时,材料表面出现一层极细微均匀的放电火花,这种微区火花放电现象在试样表面不同位置出现,在待微弧氧化表面原位生长陶瓷膜层,以达到强化材料表面的目的。微弧氧化原理是将Al、Mg、Ti等轻金属或其合金置于电解质水溶液中作为阳极,利用电化学方法在该材料的表面产生火花放电斑点,在热化学、等离子体化学和电化学的共同作用下,获得金属氧化物陶瓷层的一种表面改性技术。微弧氧化技术、微弧氧化电源、微弧氧化生产线、微弧氧化工艺
微弧氧化是一种直接在有色金属表面原位生长陶瓷层的新技术,微弧氧化技术是近十几年在阳极氧化基础上发展起来的,但两者在机理上、工艺上以及膜层性能上都有许多不同之处。微弧氧化电解液不含有毒物质和zhong金属元素,电解液抗污染能力强和再生重复使用率高,因而对环境污染小,满足优质清洁生产的需要,也符合我国可持续发展战略的需要。所谓等离子体就是由大量的自由电子和离子组成,且在整体上表现为电中性的物质,它被称为固态、气态和液态以外的第四态。处于热等离子态的物质具有强的导电性,且能量集中,温度较高,是一个高热、高温的能源。与传统的阳极氧化法相比,微弧氧化陶瓷膜与基体结合牢固,结构致密,具有良好的耐磨、耐腐蚀、耐高温冲击和电绝缘等特性、具有广阔的应用前景。
以上信息由专业从事微弧氧化生产线报价的日照微弧技术于2024/6/23 10:45:46发布
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