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轻金属微弧氧化电话承诺守信「日照微弧技术」

来源:日照微弧技术 更新时间:2024-07-18 11:47:40

以下是轻金属微弧氧化电话承诺守信「日照微弧技术」的详细介绍内容:

轻金属微弧氧化电话承诺守信「日照微弧技术」[日照微弧技术e3dd1d9]内容:微弧氧化(Microarc oxidation, MAO)又称等离子体电解氧化(Plasma electrolytic oxidation, PEO)、微等离子体氧化(Microplasma oxidation, MPO)等,是通过电解液与相应电参数的组合,在铝、镁、钛等金属及其合金表面依靠弧光放电产生的瞬时高温高压作用,原位生长出以基体金属氧化物为主的陶瓷膜层。

首创!首创!五一期间,经精心工艺设计,圆满完成了超大钛合金工件的微弧氧化。该超大钛合金工件为钛合金材质,长度3.2米   ,直径1.1米,重量 1.5吨,结构复杂,微弧氧化的难度较大,技术人员牺牲了休息时间,刻苦攻关,终于实现了小功率电源做超大件微弧氧化的新突破。微弧氧化电源、微弧氧化技术、微弧氧化应用、微弧氧化生产线、微弧氧化技术优势

用正交试验法,对影响7075铝合金微弧氧化膜层致密性的电参数进行优化。以膜层厚度和孔隙率作为指标,以正向电压、电流密度、正占空比和脉冲频率作为因素设计,并开展了四因素三水平的正交试验。使用扫描电镜对正交试验后微弧氧化陶瓷膜层的表面形貌进行了观察;利用Image J软件对陶瓷膜层的膜层厚度及孔隙率进行测量。

结果表明:影响微弧氧化陶瓷膜层厚度的电参数顺序从大到小依次为:正向电压〉电流密度〉正占空比〉脉冲频率;

影响微弧氧化膜层孔隙率的电参数顺序从大到小依次为:正向电压〉电流密度〉正占空比〉脉冲频率;

采用综合平衡法确定的电参数的优化结果为:正向电压550V、电流密度8 A/dm^2、正占空比20%、频率400Hz。

ZL205A微弧氧化膜层耐蚀性能研究

利用硅酸盐复合电解液体系,在ZL205A上采用微弧氧化法制备膜层。

所用的工艺参数为:恒流控制,电流密度3 A/dm^2,频率500 Hz,终止电压450 V。利用扫描电镜对该膜层的形貌及结构进行分析;对膜层的化学成分进行分析;采用极化曲线评价膜层的耐蚀性。

结果表明:所制备的微弧氧化膜层能提高ZL205A的耐蚀性。

以上信息由专业从事轻金属微弧氧化电话的日照微弧技术于2024/7/18 11:47:40发布

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