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实验室微弧氧化电源了解更多 日照微弧氧化工艺

来源:日照微弧技术 更新时间:2024-07-21 08:10:00

以下是实验室微弧氧化电源了解更多 日照微弧氧化工艺的详细介绍内容:

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微弧氧化应用

微弧氧化技术工艺处理能力强,主要可用于对耐磨、耐蚀、耐热冲击、高绝缘等性能有特殊要求的铝基零部件的表面强化处理;还可采用不同的电解液对同一工件进行多次微弧氧化处理,以获取具有多层不同性质的陶瓷氧化膜层。微弧氧化技术生成的膜层综合性能优良,与基体结合牢固,且工艺简单,对环境污染小,目前对其生长规律、生长机理和影响因素等已经有了较为深入的研究,在工业上得到了一定的应用,是一种具有发展潜力的镁合金表面处理技术。还可用于常规阳极氧化不能处理的特殊铝基合金材料的表面强化处理。

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微弧氧化技术特点

(1)氧化膜具有陶瓷结构特征。

(2)原位生长。

(3)氧化膜均匀增厚。

(4)无污染:无环保限制元素加入,基本无废水排放。

制备工艺简单。

(5)表面硬度高,显微硬度在400至1500HV;

(6)耐磨损性能与硬质合金相当;

(7)耐腐蚀性能:盐雾试验铝合金1000-2000小时 ;镁

合金经封孔后耐盐雾可达1000小时以上。

(8)耐热性能:300℃水中淬火35次未见变化,1300℃

冲击5次不脱落、不龟裂。

(9)绝缘性能:膜厚不同,表面电阻达  109-12Ω

微弧氧化处理技术的优势

选用微弧氧化技术对铝以及合金制品开展表面加强解决,具备加工工艺全过程简易,占地小,解决能力强,生产制造率,适用大工业化生产等优势。陶瓷层与基体牢固结合、结构紧密,具有很高的韧性、耐磨、耐腐蚀、耐高温冲击和电绝缘等特性。微弧氧化解决后的铝基表面陶瓷膜层具备强度高,耐蚀性强,介电强度好,膜层与肌底金属材料结合性强,并具备非常好的耐磨损和耐高温冲击性等性能。

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以上信息由专业从事实验室微弧氧化电源的日照微弧技术于2024/7/21 8:10:00发布

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