相比MoO3，加入钼质量浓度相同的Na2MoO4所得膜层耐蚀性更佳，在添加0.42g/L Na2MoO4时制得膜层其腐蚀电流密度比无添加剂时的低约7倍，比基体的低约1个数量级。故加入Na2MoO4的价比更高。
此外，这2种添加剂的加入，均可在AZ91D镁合金表面制得浅棕色的膜层，起显色作用的物质是MoO2。
微弧氧化工艺
微弧氧化工艺技术是直接在有色金属表面原位生成陶瓷层的新技术。微弧氧化工艺技术工艺简单，对环境污染小，具备很大的优越性，它制备的膜层特点鲜明，膜层与基体金属属于冶金结合，结合牢固，在制备涂层方面具有明显优势，微弧氧化技术已被广泛应用于Al、Ti 和Mg等金属行业，是一种很有前景的表面处理工艺。
微弧氧化的步骤
一、阳极氧化阶段
将样品置于一定的电解液中，通电后，样品外表和阴极外表呈现无数细小的平均的白色气泡，而且随电压升高，气泡逐步变大变密，生成速率也不时加快。在到达击穿电压之前，这种现象不断存在，这一阶段就是阳极氧化阶段。
二、火花放电阶段
当施加到样品的电压到达击穿电压时，样品外表开端呈现无数细小、亮度较低的火花点。这些火花点密度不高，无爆鸣声。在该阶段，样品外表开端构成陶瓷层，但陶瓷层的生长速率很小，硬度和致密度较低，所以应尽量减少这一阶段的时间。
以上信息由专业从事轻金属微弧氧化电话的日照微弧技术于2024/7/29 10:39:08发布
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