净化工程技术对半导体和集成电路生产的意义：
半导体材料的提纯是半导体器件发展的重要基础。由于大规模和超大规模集成电路的工艺要求，为了获得高纯度的硅材料，原料和中间介质的高纯度以及生产环境的洁净度成为影响产品质量的突出问题。IC芯片的良率与芯片的缺陷密度有关，芯片的缺陷密度与空气中的颗粒数有关。因此，随着集成电路的快速发展，不仅要控制空气中粒子的大小，还要进一步控制粒子的数量。
对于紊流洁净室，由于主要依靠空气的稀释作用来降低室内污染程度，所以主要采用换气次数的概念，而不是直接采用速度的概念，但对室内空气流动的速度也有以下要求;
1.送风口出口处的气流速度不宜过大。与简单空调房相比，速度衰减更快，扩散角更大。
2.吹过水平面的气流速度（如车损时的回流速度）不宜过大，以免将表面颗粒吹回气流中，造成二次污染，此速度不宜干燥0.2m/s。
对于平流洁净室俗称层流洁净室，因为它主要靠“活塞挤压作用的气流来排除污染”，所以截面上的速度是一个非常重要的指标。以往全部参考美国20gB标准，采用0.45m/s。但人们也明白，这样大的风速所需要的通风非常大，为了节约能源，也都在探索降低风速的可行性。
还有这个卫生等一些要求，等级差异也比较大。那么这个主要的特点就是说在流动的这个气体表面，如果发生一些变化的时候，整个房间都要保持一致，一定是外面的风口速度再大，气流也不能朝室内的方向流动。
能够看到净化工程主要受流速的影响，但是如果采用这个过滤器的送风形式，即便是流速比较低，一定能够得到上面这个结果。这是因为突变流和这个非均匀硫在一块所引起的混合以及整个房间的大回流发生漩涡所导致的。空气通过这个过滤器来进入到其中，然后进行操作，非常简单。
以上信息由专业从事结净层流罩厂家的雨诺净化于2024/7/10 12:11:04发布
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