另外，当湿度过高时，粘在硅芯片表面的灰尘会被化学吸附在表面，难以清理。相对湿度越高，去除附着越困难。而当相对湿度低于30％时，由于静电力的作用，颗粒容易吸附在表面，大量半导体器件容易击穿。
净化工程压力调节
对于大多数洁净空间来说，要保持内压（静压）高于外压（静压），以防止外部污染的侵入。压差一般应按照以下原则维持:
这是对乱流洁净室的比紊流、更地描述。湍流度主要由雷诺数决定，即流的量决定。然而，如果使用的过滤器作为自上而下的空气供应，所有这些结果的可以产生即使在非常低的流量，因为它是一个突然和不均匀的流动。因此，在这种情况下，不仅存在紊流引起的流层之间的混合，整个腔室内还存在较大的回流和涡流混合。
净化工程-单向流动洁净室原理
还有这个卫生等一些要求，等级差异也比较大。那么这个主要的特点就是说在流动的这个气体表面，如果发生一些变化的时候，整个房间都要保持一致，一定是外面的风口速度再大，气流也不能朝室内的方向流动。
能够看到净化工程主要受流速的影响，但是如果采用这个过滤器的送风形式，即便是流速比较低，一定能够得到上面这个结果。这是因为突变流和这个非均匀硫在一块所引起的混合以及整个房间的大回流发生漩涡所导致的。空气通过这个过滤器来进入到其中，然后进行操作，非常简单。
以上信息由专业从事结净层流罩厂家的雨诺净化于2024/7/25 10:30:09发布
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