名称:氧化镁(MgO)
必须使用电子枪蒸发因该材料升华,坚硬耐久且有良好的紫外线(UV)穿透性,250nm时n=1.86,190nm时n=2.06, 166nm时K值为0.1, n=2.65。可用作紫外线薄膜材料。MGO/MGF2膜堆从200nm---400nm区域透过性良好,但膜层被限制在60层以内(由于膜应力)500nm时环境基板上得到n=1.70。由于大气CO2的干扰,MGO暴露表面形成一模糊的浅蓝的散射表层,可成功使用传统的MHL折射率3层AR膜(MgO/CeO2/MgF2)。 次数用完API KEY 超过次数限制
氟化钍
名称:氟化钍(ThF4)
260-12000nm以上的光谱区域,是一种低折射率材料,在可视光谱区N从 1.52降到1.38(1000nm区域)在短波长趋近于1.6,蒸发温度比MGF2低一些,通常使用带有凹罩的舟皿以免THF4良性颗粒火星飞溅出去,而且形成的薄膜似乎比MGF2薄膜更加坚固.该膜在IR光谱区300NM小水带几乎没有吸收,这意味着有望得到一个低的光谱移位以及更大的整体坚固性,在8000到12000NM完全没有材料可以替代. 次数用完API KEY 超过次数限制
二氧化硅
名称: 二氧化硅(SiO2)
经验告诉我们,氧离子助镀(IAD)SiO将是SiO2薄膜可再现性问题的一个解决方法,并且能在生产环境中以一个可以接受的高速度蒸着薄膜.
SiO2薄膜如果压力过大,薄膜将有气孔并且易碎,相反压力过低薄膜将有吸收并且折射率变大,需要充分提供高能离子或氧离子以便得到合乎需要的速度和特性
SiO2用于防反膜,冷光膜,滤光片,绝缘膜,眼镜膜,紫外膜.
透光范围(nm) 折射率(N) 550nm 蒸发温度(℃) 蒸发源 应用 杂气排放量
200--2000 1.46 1800-2200 电子枪,防反膜,增透 少,升华
无色颗粒状,折射率稳定,放气量少,和OS-10等高折射率材料组合制备截止膜,滤光片等. 次数用完API KEY 超过次数限制
以上信息由专业从事pe收缩膜厂家的致欣环保于2024/7/6 11:04:48发布
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