等离子抛光技术主要是针对目前市场上不锈钢、锌合金、铜合金及铝合金等抛光的难题而研发的,该技术可在去除不锈钢表面毛刺,同 时可达到表面镜面抛光效果。
高纯度,有效减小对电子类产品的沾污。抛光后产品的特性主要表现在:粗糙度降低,光洁度、精密度提高、坚硬耐用、缺口敏感性降低、变得光滑整齐、摩擦系数下降、磨损减少等。
电浆抛光厂
不锈钢因其耐腐蚀、化性强等优点,广泛用于各类金属制品。而不锈钢保温杯内胆、精密管件、模具或传动部件等产品,需要对内孔或内型腔进行镜面抛光。
内孔抛光是机械加工术语,又叫深孔抛光。主要是通过机械、电火花、电化学、电解质等离子抛光等方法使内孔粗糙度降低、光亮度提升的加工方法。
不锈钢等离子抛光已是非常成熟的抛光技术,同样抛光溶液、参数为何无法应用于不锈钢内孔抛光?
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等离子技术跟光等离子技术的区别
光等离子是用光子的能量把这氧气分子链断开,形成了一个单氧,然后再变成臭氧,是这么一个过程。等离子是这种电场电的能量,把它这个分子链给断开。
所以两个是机理是:一是光,一是电,来把它断开。
但是它的效果呢,哪个好?
从能量来说的话,光的能量它是一个固定值,电的话的能量是可大可小。你加的电压高,电子能就更高,你要加的电能低。因此来讲它可以比光更弱一点,也可以比光更强一点。
但是因为电不好控制,它就容易产生把氮气也给电离了,产生氮氧化物(致癌),这是它的一个不利方面。但是如果你把电压降低一点,氮氧化物没有,但是臭氧也会少一些,然后电离能也会降低点。是大概是这么一个情况,光是比较好控制的。
等离子抛光的三个主要优点是成本更低,该过程更环保,并且具有该技术独有的表面下损伤去除效果。等离子抛光晶圆与CMP晶圆比较而言,一直到二极管和MOSFET器件生成,完整的晶圆电气性能和良率结果已经与CMP相当(图1)。
等离子抛光剂不使用消耗性有毒浆料,因此避免了相关的处置问题和高用水量,消除这些工艺要求可以将运营成本降低多达85%。此外,该步骤上游的材料要求不需要改变,之后的工艺也看不到等离子抛光晶圆和CMP晶圆之间的差异。
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等离子抛光原理
等离子也称为物质的第四态,是一种电磁气态放电现象,使气态粒子部分电离,这种被电离的气体包括原子、分子、原子团、离子和电子。等离子就是在高温高压下,抛光剂水溶,在高温高压下,电子会脱离原子核而跑出来,原子核就形成了一个带正电的离子,当这些离子达到一定数量的时候可以成为等离子态,等离子态能量很大,当这些等离子和要抛光的物体摩擦时,顷刻间会使物体达到表面光亮的效果。
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等离子电浆抛光是一种表面处理技术,通常用于提高材料表面的光洁度和耐蚀性。这种技术利用等离子体生成的高能粒子对材料表面进行加工,能够去除微小的凹凸和污染物,从而使表面更加平滑和清洁。等离子电浆抛光常用于各种材料,如金属、陶瓷和塑料等,以改善其功能性和美观性。
以上信息由专业从事电浆抛光厂的棫楦不锈钢表面处理于2024/7/26 6:28:09发布
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