特种气体存放

针对腐蚀性、毒性、燃烧性的气体，通常设计将钢瓶置于特气柜内，再通过管道将气体供应至现场附近的阀门箱，而后再进入制程机台的使用点，于进入机台腔体之前，会有独立的气体控制盘与制程控制模块联机，以质流流量计控制器进行流量之控制与进气的混合比例控制，通常此气体控制盘不属于厂务系统的设计范畴，而是归属制程机台设备的一部份。氮气系统采用SUS316L-EP管，CDA可采用SUS316L-BA管，其管径根据气柜的多少来计算决定。一般的惰性气体则是以开放式的气瓶架(Gas Rack)与阀门盘进行供应。

特种气体系统：

气体房的选择和设计

除了简单的供气系统以外，特气房一般都独立于主场房而单独建设，其规划时需考虑建筑物的防火、泄爆、防火防爆间距、危险物的总量控制等。常规供气系统一般也采用多种气瓶柜共设在一个气体室；而对于大宗特气，会根据气体特性和相容性将气体房分成可燃气体房、腐蚀性气体房、惰性气体房、硅1烷气体房、毒性气体房等。由于氦气的液化温度很低，接近于绝1对零度，故其测温范围很广，多用于精密测量。气体房必须有良好的通风，气体房的选择和设计一般由设计院完成。

特种气体:高纯氯1气

高纯氯1气应用

高纯氯1气主要用于液晶平板显示器、光纤和半导体行业，被用作蚀刻气体和脱水剂，而其中光纤行业用量较大。光纤1主要参数是损耗，无论是石英光纤还是浮化玻璃光纤中的损耗，主要是由OH-阴离子、过渡金属离子和稀土金属离子引起的。因为光散射、光吸收主要是由OH-产生的，所以必须脱除光纤中的OH-离子。工业液1氯中的杂质含量较多，欲制得高纯氯必须把原料氯中的H2O、O2、N2、CO2、CO、H2、CH4等除去，除H2O外其余杂质的沸点均低于氯，故用物理吸附法除去H2O和CO2。为了降低损耗，处需要光纤制造系统精良和所有原材料纯度高外，其关键是在制造光纤工艺中通入高纯氯1气，有效除去OH-离子。因此，高纯氯1气是生产光纤不可或缺的原材料。

特种气体的一般概念  

临界温度和临界压力。可是只能完成一个大气压差的漏率检测，不能准确反映带压被检产品的实在走漏状况。因为任何气体在一点温度和压力下都可以液化，温度越高，液化所需要的压力也越高，但是当温度超过某一数值时，即使在增加多大的压力也不能液化，这个温度叫临界温度 ，在这一温度下zui低的压力就叫做临界压力，例如：水的临界温度为374.15℃，临界压力为225.65kgf/cm2,氨的临界温度为132.4℃，临界压力为115.2kgf/cm2。