真空电镀带正电荷的蒸发料离子，阴极吸引下，随同离子一同冲向工件，真空电镀当抛镀于工件表面上的蒸发料离子逾越溅失离子的数量时，真空电镀则逐渐堆积形成一层牢固粘附于工件表面的镀层。

真空电镀工艺则有所不同，真空电镀是真空罩内进行的但这时镀膜过程是以电荷传递的形式来实现的，真空电镀蒸发料的粒子作为带正电荷的高能离子在高压阴极(即工件)吸引下，真空电镀以很高的速度注入到工件表面。

真空镀膜技术是一种新颖的材料合成与加工的新技术，是表面工程技术领域的重要组成部分。而它的薄膜监控方式有多种，下面就和我们一起来看看真空镀膜设备的一些主要监控方式吧。

一、定值监控法。此办法使用停镀点不在监控波长四分之一波位，然后由计算机计算在波长一时总膜厚之反射率是多少，此即为中止镀膜点。

二、目视监控。使用双眼监控，因为薄膜在成长的过程中，因为干涉现象会有色彩改变，我们即是依据色彩改变来操控膜厚度的，此种办法有必定的差错，所以不是很好，需求依托经历。

真空系统由机械泵、扩散泵、油增压泵、增扩泵、罗茨泵、埚轮分子泵等及与它们相匹配的各种气动、手动、电动阀门、管道等组成。

根据工艺要求选择镀制方式及形式，如电阻蒸发（钨丝、钼舟、石墨舟）磁控源（同轴圆柱型磁控源、园柱型平面磁控源、矩型平面磁控源等）以靶材材质及尺寸多弧源（Ф60，Ф80直径靶材，气动、电动的引弧等），真空测量可选择数字式智能真空计及其***的测量规管，及其它测量仪器，如自动压强控制仪等。膜厚测量可选用方块电阻测量仪，透过率计等。设备在通电工作之前，要检查各个部分是不是准备好，且看看机台无人作业，把“手动/停止/自动”开关置于“停止”位置上。