真空镀膜技术是一种新颖的材料合成与加工的新技术，是表面工程技术领域的重要组成部分。而它的薄膜监控方式有多种，下面就和我们一起来看看真空镀膜设备的一些主要监控方式吧。

一、定值监控法。此办法使用停镀点不在监控波长四分之一波位，然后由计算机计算在波长一时总膜厚之反射率是多少，此即为中止镀膜点。

二、目视监控。使用双眼监控，因为薄膜在成长的过程中，因为干涉现象会有色彩改变，我们即是依据色彩改变来操控膜厚度的，此种办法有必定的差错，所以不是很好，需求依托经历。

真空中制备膜层可防止膜料和镀件外表的污染，消除空间磕碰，进步镀层的细密性和可制备单一化合物的特别功用的镀层。为了进步镀层厚度的均匀性，镀在真空室中夹有行星组织或旋转运动的设备，如一个行星的运动形式，运动形式的膜均匀性好，镀层的台阶覆盖性能好，承载才能大，可充分利用有用空间的真空镀膜室，是一个运动的常用形式。排气体系通常由机械泵，分散泵，管道和阀门构成。镀膜过后的设备更漂亮、更耐用，还有很多的产品只有经过了镀膜才可以使用，才可以称之为一个产品，我们只有重视真空镀膜设备维修保养，才会延长其寿命。为了进步泵的流量，能够增加增压器之间的机械泵和分散泵。

真空镀技术用于生产激光唱片（光盘）上的铝镀膜和由掩膜在印刷电路板上镀金属膜。在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。不仅适合于有洁净要求的工业部门，也适合于真空对洁净环境的要求。蒸发镀膜 通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。