影响离子束刻蚀的因素

影响刻蚀效果的因素很多，还有诸如离子刻蚀的二次效应、光刻胶掩模图形的形状和厚度、源靶距效应、离子刻蚀弓起的材料损伤及温度效应等。

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离子束刻蚀机

离子束刻蚀是通过物理溅射功能进行加工的离子铣。国内应用广泛的双栅考夫曼刻蚀机通常由屏栅和加速栅组成离子光学系统，其工作台可以方便地调整倾角，使碲镉gong基片法线与离子束的入射方向成θ角，并绕自身的法线旋转，如图1所示。评价沟槽轮廓主要的参数有沟槽的开口宽度We、沟槽的刻蚀深度H、台面的坡度角φ和沟槽底部的宽度Wb。我们常用的深宽比（Aspectratio）是指槽深H和槽开口宽度We的比值，本文中用R表示。深宽比是常用来作为衡量刻蚀工艺水平和刻蚀图形好坏的评价参数。

离子束刻蚀机由真空室、工作台、快门、真空抽气系统、供气系统、水冷系统、电源和  电器系统等主要部分组成,图1-1所示为离子束刻蚀机的工作原理图。该机在正常工作  时,首先将真空室的压力抽至2×10-3Pa或更低,再调节Ar气流量,使真空室压力保持  在1×10-2~2×10-2Pa(如需要辅助气体,如O2、CH2等,则可按一定比例与之混合),  然后启动离子源各电源,使离子源正常工作,从离子源引出一定能量和密度的离子束  被中和器发射的电子中和后,轰击工件进行溅射刻蚀。