钢研纳克Plasma 2000 全谱ICP光谱仪参数

1. 光学系统：中阶梯二维分光光学系统，焦距400mm

2. 谱线范围：165nm~900nm，光学分辨率：0.007nm（200nm处）

3. 光栅规格：中阶梯光栅，52.67刻线/毫米，尺寸：100mm x 50mm

4. 晶体管固态射频发生器，小巧有效

5. 40.68MHz频率提高信噪比，改善了检出限

6. 自动匹配调节

7. 全组装式炬管，降低了维护成本

8. 计算机控制可变速10滚轴四道或两道蠕动泵，具有快速清洗功能

9. 实验数据稳定性良好：重复性

RSD ≤0.5% (1mg/L) （n=10）；稳定性：RSD

≤2.0%（大于3小时）

钢研纳克 Plasma2000 全谱ICP光谱仪

Plasma2000电感耦合等离子体发射光谱仪是钢研纳克在首批“国家重大科学仪器设备开发专项”支持下研发的二维全谱高分辨ICP光谱仪，是国产全谱ICP光谱仪革命性产品，曾斩获中国仪器仪表行业协会“自主金奖”等一系列荣誉，在业界获得广泛的好评。美观精致的高颜值工业设计，优异稳定的测试性能源于纳克近四十年ICP行业经验。Plasma2000拥有

1、中阶梯光栅与棱镜交叉色散结构，径向观测，具有稳健的检测能力。

2、 有效稳定的自激式固态射频发生器，体积小巧，匹配速度快，确保仪器的精度较高运行及优异的长期稳定性。

3、 高速面阵CCD采集技术，单次曝光获取全部谱线信息，真正实现“全谱直读”。

4、 功能强大的软件系统，简化分析方法的开发过程，为用户量身打造简洁、舒适的操作体验。

可广泛应用于冶金、地质、材料、环境、食品、石油、化工、生物、水质等各领域的元素分析。

由钢研纳克承担的国家重大科学仪器设备开发专项“ICP痕量分析仪器的研制与应用”取得重要进展。本专项开发内容包括二维全谱高分辨ICP光谱仪和ICP质谱仪。目维全谱高分辨ICP光谱仪已解决了大面积CCD采集的瓶颈问题，接近于商品水平的产品样机将于年内完成；ICP质谱仪第二代研发样机已成功组装和调试，采集到正确的谱图，这一突破标志着在第二代样机上采用的自主设计的高真空系统、接口及离子传输系统以及射频发生器系统3个关键、难点技术已经实现原理***。为高质量、按期完成项目任务和本单位新产品开发任务奠定了坚实的基础。