真空除气炉的构成介绍

真空测量装置：采用复合真空计，使测量更加准确。

加热烘烤组件：采用铠装管加热，包括工件托盘及支架，箱室顶部中心测温。功率：9.5千瓦，控制精度：±1℃。

管道阀门：真空阀门、真空管道均采用304不锈钢材料制成，为获得较好的真空提供了必要的物质基础。

真空获得系统单元由前级泵、分子泵、管道阀门等组成。

前级泵：选用涡旋干式真空泵，无油运行，可为真空箱室提供洁净的真空环境。

分子泵：选用脂润滑复合分子泵，可为真空箱室提供高真空和洁净的真空环境。

真空除气储存柜的放置

本机台不要放置在阳光直射或环境温度过高的地方，环境温度是5-35℃，环境湿度是35%~65%的相对湿度；且要保持放置处长期通风良好的位置。使用前注意电压是否正确，仅适用机台上所标示之电压，避免电过量，而使电线走火．请勿置于潮湿之场所，请勿直接用水冲洗，以防漏电；

请小心将物品放入机台，关上箱门，检查是否密闭。试验结速后，站侧面打开箱门，以免热气烫到面部。

高真空除气炉的特点

科创鼎新公司生产的高真空除气炉，真空度可高达10-7Pa，可用于半导体硅片的除气以及红外芯片、气密性封装、航空航天芯片等其他电子产品的封装。

高真空除气炉特点：　

①　极限真空度高；

②　控温精度高；

③　更高的升温速率；

④　更加智能化；

⑤　可真空去除产品空洞与气泡；

⑥　降低产品的氧化性；

⑦　提高工艺室的洁净度。

真空除气储存柜

本设备是一种可以提供真空环境的储存设备，分为上中下三层箱室，均可独立工作。

加热室：采用圆筒形加热室结构。隔热屏采用多层钼结构，各层之间采用99刚玉陶瓷，发热体为钼片，钼片均匀环绕在隔热屏周围，实现良好的温度均匀性。具有使用寿命长、隔热保温性能好、真空放气量较少。外框使用不锈钢（310S）板材料，并且焊接多道加强筋以保证不变形。