在一个操作间，机器以及机器周围走动的人员，会对气流形成障碍。障碍物可以使单向流变成紊流，从而在障碍物周围形成气流团。人员的活动也可以使单向流变成紊流。在这些紊流中，由于风速较低，空气稀释程度较小，从而使得污染浓度较高。因此，必须将风速保持在0.3米/秒至0.5米/秒（60英尺/分钟至100英尺/分钟）的范围里，以便使中断的单向流能快速恢复，充分稀释障碍物周围紊流区的污染。用风速可以正确地表示出单向流，因为风速越高室内就越洁净。而每小时换气次数与房间的体积有关，如吊顶的高低，因此不适合用来表示单向流。

净化工程中空气净化处理方案：

    ●确定集中或分散式净化空气调节系统时，应综合考虑生产工艺的特点和净化车间空气的洁净度等级、面积、位置等因素。凡生产工艺连续、无尘室或净化车间面积较大时，位置集中以及噪声控制和振动控制要求严格的洁净室，宜采用集中式净化空气调节系统。

    ●净化工程中净化空气调节系统除直流式系统和设置值班风机的系统外，应采取防止室外污染空气通过新风口参入净化车间内的防灌倒措施。

    无尘洁净室是指将一定空间范围内之空气中的微粒子、细菌等之污染物排除，并将室内之温度、洁净度、室内压力、气流速度与气流分布、噪音振动及照明、静电控制在某一需求范围内，而所给予特别设计建成的无尘洁净房间。

    每立方米将小于0.5微米粒径的微尘数量控制在3500个以下，就达到了国际无尘标准的A型级别。应用在芯片级生产加工的无尘标准对于灰尘的要求高于A型级别，这样的高标主要被应用在一些等级较高芯片生产上。微尘数量被严格控制在每立方米1000个以内，这也就是业内俗称的1K级别。

    我国的洁净室工程开始于20世纪60年代初，在70年代电子工业洁净室特别是半导体集成电路用洁净室的规划、建造开展很快，相继建成一批洁净厂房，并研制成功100级单向流洁净室;与此同时，洁净厂房用设备和资料，如过滤器，洁净工作台、层流罩、洁净烘箱、空气吹渊室、净化型传递窗等相继研制成功，并投入出产，虽然制作质量和某些工程指标与世界水平尚有差距，但已能满足国内部分需求，到20世纪70年代末我国洁净室规 划、建造和洁净工程的开展走向成熟阶段。