常见冷光源LED曝光机举例;MYCRO美国制造的恩科优(N&Q)紫外曝光系统,适用于从特殊大小的基片到4尺寸很宽广范围材料的紫外或深紫外光曝光.NXQ400-6系统成功地应用于半导体制造,光电电子,平板,射频微波,衍射光学,微机电系统,凹凸或覆晶设备和其他要求精细印制和精度对准的应用.
世界再嘈杂,工匠人的内心是安静,安定的.只有心念纯粹的人,才能耐得住现世的繁华与浮躁.十年时光荏苒,诺林电子的工程师们历经风雨,去糙求真,把整个身心都全情投入产品研发中去,世界再嘈杂,也因此纯粹,专注,而变得安静.
1、通过微电脑控制器可设定吸真空及曝光时间,操作方便,每次晒版、抽气、曝光、排气一次完成.
2、采用微电脑控制的99组记忆模式可随时调用.
3、机体内部淘汰了传统的漏斗式设计,采用更为科学、合理的流线型,充分利用了光源的能量均匀的折射在整个玻璃面,提升了多套色,四色的网点的制版效果。
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