常见冷光源LED曝光机举例;MYCRO美国制造的恩科优（N&Q）紫外曝光系统,适用于从特殊大小的基片到4尺寸很宽广范围材料的紫外或深紫外光曝光.NXQ400-6系统成功地应用于半导体制造,光电电子,平板,射频微波,衍射光学,微机电系统,凹凸或覆晶设备和其他要求精细印制和精度对准的应用.

世界再嘈杂,工匠人的内心是安静,安定的.只有心念纯粹的人,才能耐得住现世的繁华与浮躁.十年时光荏苒,诺林电子的工程师们历经风雨,去糙求真,把整个身心都全情投入产品研发中去,世界再嘈杂,也因此纯粹,专注,而变得安静.

东莞市和川机械设备科技有限公司是中国较早从事冷光源曝光机研发制造的企业之一，是专注于冷光源精密曝光机系统的现代化企业。

需保持工作面的清洁度和干燥度,使用前后要用柔软细嫩布擦净.

保持通风干净,不易于腐蚀性物品放在一起.

不宜放在高温潮湿处,一般入放在5℃-40℃为宜.

连续两次使用间隔时间要大于5分钟,否则会降低灯管的使用寿命.

晒版工作后要散热5分钟后再可以工作.

东莞市和川机械设备科技有限公司是中国较早从事冷光源曝光机研发制造的企业之一，是专注于冷光源精密曝光机系统的现代化企业。曝光机集曝光、洗版、烘干、后曝光多种功能于一体。微处理中央触摸控制板，操作简便，采用***飞利浦灯管、***AAA电子镇流器，让UV灯管发挥佳状态，提高工作效率，灯管寿命更长；曝光平台采用进口三菱真空膜，让紫外线穿透力更强、更均让紫外线穿透力更强、更均；让紫外线穿透力更强、更均让紫外线穿透力更强、更均。